6. Комплекс микроструктурирования поверхности оптических материалов
Ответственный:
Общая характеристика: Экспериментальный комплекс микроструктурирования поверхности оптических материалов обеспечивает возможность напыления покрытий, формирование микрорисунка фотошаблонов, микроструктуры рельефно-фазовых оптических элементов на поверхности оптических подложек. Комплекс позволяет изготавливать фотошаблоны общего назначения, бинарные и многоуровневые дифракционные оптические элементы, конформальные корректоры аберраций лазерных кристаллов, травить кварцевые подложки на глубину до 5 мкм, напылять плёнки хрома и меди на подложки диаметром до 350 мм, изготавливать экспериментальные образцы прецизионных подложек, линз и призм, осуществлять резку оптических кристаллов. Состав:
|